二手 KLA / TENCOR ILM 2367 #9024433 待售

KLA/TENCOR ILM 2367是一種掩模和晶圓檢驗設備，旨在使半導體制造商能夠加快生產過程，提高產量。該系統將聚焦離子束光刻技術與先進成像技術相結合，檢測生產過程中產生的每個掩模和晶片的缺陷和結構完整性。它采用一種專利OptiFIBER™成像技術，利用多個光信號通道獲得被掃描物體的精確3 D圖像。KLA ILM 2367采用開放式、可擴展的體系結構,能夠進行多種配置,從單個以晶圓為中心的FIB工作站到具有12個晶圓工作站和兩個集成的FIB系統的完全定制單元。這使機器能夠在10分鐘內掃描多達1200個蒙版和晶片樣本。在開發該工具的樣本定位機制時也非常註重細節，該機制允許精確和可重復的樣本位置。此外,集成的FIB資產允許在同一樣品上的不同位置以更高的放大倍率和更長的觀察時間進行局部成像。TENCOR ILM 2367還配有一個用戶友好的可視化界面,用於控制任何PC或筆記本電腦的圖像和樣品處理。這樣可以方便地訪問各種成像質量和定位參數,從而使操作員能夠快速自定義和設置參數以獲得優異的效果。在檢測結果中，ILM 2367能夠極快地檢測和分類缺陷類型。它能夠檢測到微粒、粘附和其他汙染物到最小水平。它還利用3 D成像機制對任何曲面和結構進行精確測量。此外，該模型還可以檢測到馬刺、地形變化、門線阻力和其他微觀結構特征。KLA/TENCOR ILM 2367還具有幾個硬件和軟件模塊,以提高工作效率和可靠性。其中包括先進的數據采集系統、納米定位階段以及用於快速故障分析的快速檢測模塊。此外，還有一個強大的圖像分割、缺陷檢測和分類後處理算法。最後,設備可以在首選的主機工具中工作,以便輕松集成到現有生產線中。總體而言,KLA ILM 2367是一個功能強大的掩碼和晶片檢查系統,它提供了一種可靠和準確的方法來檢測和分類各種缺陷,直至亞微米級。它具有快速、精確的掃描速度、出色的成像功能以及強大的硬件和軟件模塊,可提高工作效率和效率。因此，該裝置將有助於確保在半導體生產中提高產量和減少廢料。