二手 KLA / TENCOR MPV CD2 AMC #9043963 待售

KLA/TENCOR MPV CD2 AMC是一款先進的掩模和晶圓檢測設備，結合了創新的測量算法和高速圖像采集技術，對半導體掩模和晶圓進行精確的檢測和分析。它旨在檢測和分析掩模上的缺陷以及半導體器件的制造過程，從而使生產更加可靠和高效。該系統由主控制臺和高分辨率數字顯微鏡組成，兩者都連接到功能強大且可靠的基於PC的硬件。這樣可以快速處理和測量掩模和晶片的圖像。顯微鏡包括一臺1200萬像素的4倍數碼變焦相機，最適合用於檢查口罩和晶片上的小規模特征。此外,該單元還包含多個專門的軟件程序,可輕松選擇用於不同檢查任務的最合適工具。KLA MPV CD2 AMC的主模塊能夠收集高達8k x 8k分辨率的三維數據，允許在檢查晶片和掩模時實現無與倫比的性能。它包括高速圖像采集機，允許在檢查時高速掃描晶片。該工具還具有專門的算法，允許對小至0.1微米的缺陷進行快速檢測。此外，它還具有用戶可選擇的算法，可用於以更高的精度和準確性分析數據。該資產還包括一個功能強大的測量軟件，使用戶能夠快速評估結構的大小和形狀，包括關鍵尺寸以及表面復雜性。該軟件可用於檢測非常小的缺陷，為制造商提供了一個更可靠的模型，用於檢查精細的掩模和晶圓制造過程。TENCOR MPV CD2 AMC是一款真正可靠、創新的口罩和晶圓檢測設備。它結合了強大的硬件和創新算法，創造了一個令人印象深刻的系統，非常適合檢測大規模晶圓和掩模制造過程中的小缺陷。它的高速圖像采集能力允許精確和高效的檢查，使其成為復雜和小型半導體器件制造商的強大工具。