二手 KLA / TENCOR MRW 200 #9083812 待售
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KLA/TENCOR MRW 200是一種具有先進功能的掩模和晶片檢測設備,可提供卓越的性能,用於掩模和晶片檢測應用。該系統提供最先進的光學和硬件配置,提供快速、準確和可靠的缺陷檢測。它能夠以高達5微米的全彩色高分辨率檢查晶片缺陷樣品,並且能夠在廣泛的檢查任務中獲得更快、更準確的結果。該裝置配備了先進的無標簽檢測方法,可以準確識別常規檢查顯微鏡看不到的缺陷。機器的高分辨率圖像捕獲和分析功能還使操作員能夠更好地分類晶圓表面上的缺陷。KLA MRW 200是一款集成工具,結合了可編程、空間先進的晶圓檢測攝像頭、高分辨率激光自動對焦資產、高速掃描電機以及快速、高精度的模模圖像捕獲和檢測引擎。這種組合提供了極其精確的缺陷檢測和分類。該型號的光學器件設計具有卓越的穩定性和性能,具有高分辨率、高速的圖像捕獲能力。掃描儀配備了DMD光發動機,提供可調節的波長範圍,以便更好地照明和成像,而單獨的角度光源和平行光源提供了一系列照明選項,以實現最佳缺陷識別。為設備供電的高速電動機使其能夠同時進行局部或全場檢查,從而能夠更快地對大型晶片樣品進行缺陷檢查。相機裝有雙通道CCD系統,可提供卓越的圖像質量和分辨率。此外,該單元還能夠執行靈活的圖像分析、基於圖像的缺陷分類以及全表面缺陷檢測。TENCOR MRW 200還提供了幾種不同的操作模式,允許用戶快速輕松地執行各種檢查任務。其中包括全場、高速、部分場和相對增強的檢查,使操作員能夠為其特定目的選擇最佳設置。綜上所述,MRW 200是一款功能強大、用途廣泛的面罩和晶圓檢測機,為各種應用提供卓越的性能。其先進的光學和硬件配置可實現準確可靠的缺陷檢測,而其健壯且可編程的設計可確保用戶能夠快速準確地執行各種檢查任務。
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