二手 KLA / TENCOR SCD-200 #9155471 待售

KLA/TENCOR SCD-200掩模和晶片檢測設備是專門為滿足最具挑戰性的故障分析和生產應用的需求而設計的。它結合了高性能、高速度和高精度以及在設備、電路和布局級別表征掩碼和晶片所需的靈活性和可擴展性。KLA SCD-200的掩模檢查和臨界缺陷檢測能力是基於四亮度成像。通過提供四個獨立的攝像機視圖，拓撲和比色掩模特征的特殊照明可以實現對光場和暗場照明技術的照明。這樣可以更準確地分辨出、檢測和表征蒙版和晶片上的近乎關鍵的缺陷。該系統還提供了一整套冗余的半自動審閱工具。通過將直觀的用戶界面與先進的模式識別技術和缺陷檢測算法相結合，TENCOR SCD-200可以快速準確地檢測到最小的缺陷。強大的分割和標註能力進一步有助於縮短開發時間，提高檢測精度。檢驗單位還配備了先進的行之有效的生產算法，采用精密的模糊檢測、邊緣檢測和紋理分析技術。它們旨在「學習」每個掩模或晶片的信噪比,從而增強缺陷檢測和特性識別功能,特別是對於具有挑戰性的3D電路配置文件。機器還包括一套全面的可視化和分析能力。交互式3 D視圖可以提供有關接近臨界缺陷的詳細信息,如叠加違規、抗流不規則、CD（臨界維度）偏移和設計跟蹤錯誤。高級可視化工具可幫助實現當今最全面的掩碼和晶圓分析。SCD-200還提供了多種環境解決方案，包括三級閉環冷卻工具。這有助於確保資產在一致的溫度範圍內運行,從而提高穩定性和可靠性。此外,檢查模型與流行SEMI-S2兼容的數據庫兼容,從而可以存檔缺陷報告,並在以後輕松檢索這些報告以供進一步審查。綜上所述，KLA/TENCOR SCD-200掩模和晶圓檢測設備提供了一套全面的檢測、分析和環境特征。它能夠提供最高的準確度,從而加快產品上市速度並提高產品產量。