二手 KLA / TENCOR SP1-DLS #9099729 待售

KLA/TENCOR SP1-DLS Mask&Wafer Inspection Equipment是一種自動化成像系統,旨在檢測半導體晶片以及集成電路制造中使用的Mask和薄膜中的缺陷。該裝置采用了各種先進技術，如亮場、暗場和散射場成像，以及一系列專門的光學濾光片，使其能夠檢查晶圓表面和薄膜厚度，分辨率僅為0.8 μ米。該機由一個包含一個或多個晶圓檢測口的檢測模、一系列照明燈和光學器件以及一套相關的圖像采集和分析軟件組成。檢測端口是一個模塊化的光學平臺，可以根據客戶的要求和應用進行配置。它具有一個可移動的x-y級、一個20倍到1000倍的可變焦光學工具和一個環形的亮場照明資產，使模型能夠成像甚至最小的特征。KLA SP1 DLS設備使用了一系列專門的光學元件,使系統能夠針對不同類型的缺陷檢測進行優化。其中包括使用兩個攝像機捕獲晶片2D圖像的透射系統光學（Transmissive Systems Optics，簡稱TSO），以及為檢測蒙版和膠片表面缺陷而優化的反射系統光學（Reflective Systems Optics，簡稱RSO）。TENCOR SP 1-DLS單元采用高級圖像分析軟件,簡化了缺陷檢測過程.利用復雜的算法，機器能夠檢測到光場和暗場圖像中存在缺陷。該工具甚至可以檢測肉眼看不見的缺陷，如顆粒和燒傷的斑點。此外,資產具有很高的準確性和可重復性,這意味著客戶可以確信它能夠準確檢測產品中的任何缺陷。最後,SP 1-DLS Mask&Wafer Inspection Model是一種先進的自動化成像設備,旨在檢測半導體晶片、Mask和薄膜中最小的缺陷。它采用了一系列先進技術，包括透射和反射系統光學，以及一套復雜的圖像分析軟件。