二手 KLA / TENCOR SP1-TBI SURFSCAN #9097041 待售

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ID: 9097041
Unpatterned surface inspection system Puck / vacuum handling Wafer measurement module Triple beam illumination (TBI) Normal illumination: 0.079 Defect sensitivity Oblique illumination: 0.060 Defect sensitivity Haze sensitivity: 0.005 ppm Ar Ion laser: 488 nm Measurement chamber with ULPA filter and blower unit Operator interface Microsoft windows NT 4.0 operating system Security, logging and native networking as provided by Windows NT Interactive pointing device Key pad controls Parallel printer port Defect map Histogram with zoom Micro view measurement capability Blower box Manual.
KLA/TENCOR SP1-TBI SURFSCAN是一種設計用於微電子生產的最先進的掩模和晶圓檢測設備。這種半導體生產系統提供全面的表面缺陷檢測功能,使用戶能夠識別蒙版和晶片上的最小缺陷,其尺寸可降至0.02微米。KLA SP1-TBI SURFSCAN由幾個單元系統組成,包括掩模檢查組和晶圓檢查組。MIU提供了先進的缺陷檢測功能,是大批量生產的絕佳選擇。該單元允許在Mask模式上進行高度精確的亞微米缺陷檢測,精度高達0.3微米。WIU提供了其他功能,允許對線鍵和其他外部缺陷進行缺陷檢查。除了先進的缺陷檢測功能外,TENCOR SP1-TBI SURFSCAN還提供多種成像選項,使其能夠檢查各種不同的功能。其中包括特征大小、長寬比和線寬/間距。它還提供獨特的角度補償和位置跟蹤功能,使其能夠準確快速地檢測傳統光學系統難以檢測到的缺陷。SP1-TBI SURFSCAN還能夠提供高保真成像解決方案。這利用了先進的算法,可以呈現文本,圖像,和模式上的面具有很大的細節程度。此外,該單元允許在3D晶片上進行快速、準確的測量,並具有高分辨率的模內特性,為生產線自動化提供可靠的結果。同時,這臺機器提供了強大的實時缺陷分析功能,用戶可以選擇即時保存和分析結果。總體而言,KLA/TENCOR SP1-TBI SURFSCAN是一種先進的生產工具,使用戶能夠準確識別口罩和晶片上的缺陷。它提供精確的測量和高保真成像,具有高度的細節和質量。此外,它還具有可靠的缺陷檢測功能,可幫助用戶檢測最小缺陷(最小缺陷可達0.02微米)。KLA SP1-TBI SURFSCAN具有靈活的成像選項和強大的缺陷分析功能,是半導體生產線的理想選擇。
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