二手 KLA / TENCOR SP1-TBI #9037347 待售

KLA/TENCOR SP1-TBI Mask&Wafer Inspection Equipment （KLA/TENCOR晶片和晶片檢測設備）是一種先進的晶片和mask檢測系統,專為高速光掩模生產而設計。該機組在一個平臺上使用兩個獨立的檢測通道，提供高達12 MHz的優質晶片和掩模檢測。KLA SP1T-BI設計用於對6英寸或8英寸光掩模晶片的復雜模式進行缺陷表征和模式驗證。該機配有高分辨率相機和光學器件，用於捕捉和分析光掩模晶片上的圖樣。刀具還具有舞臺運動資產,它允許對蒙版表面進行XY掃描和兩軸傾斜舞臺。該模型還能夠檢測各種類型的缺陷，包括：小螺距線缺陷、過度蝕刻缺陷、錯誤擊打、錯誤匹配、層錯誤對齊、無圖案棋盤圖樣、蝕刻缺陷等。設備能夠準確檢測相關晶片缺陷，識別晶片形狀，以識別被檢測者。利用HPC（高性能計算）系統，TENCOR SP1 TBI單元可以同時處理多個圖像，快速識別任何光刻誤差。高速掃描和檢查由快速掃描映射和數據處理提供動力。該機器具有自動缺陷分類和分級過程,可快速生成詳細報告。TENCOR SP1-TBI Mask&Wafer Inspection Tool是高端Mask生產的理想解決方案。與任何手動掃描過程相比,它提供了更高的可靠性、準確性和高速檢查,同時提高了吞吐量。該資產具有用戶友好界面，便於操作員使用。此外，該模型還利用復雜的軟件跟蹤、存儲、分類和分析流程批次。這些設備為各類步驟和審查操作提供了詳細的報告，以實現有效的可追蹤性。KLA/TENCOR SP1 TBI提供卓越的整體性能,具有卓越的精確度和無與倫比的速度。該系統滿足最苛刻的生產工藝的需要，以確保可靠的成本效益生產。