二手 KLA / TENCOR SP1-TBI #9248729 待售

KLA/TENCOR SP1-TBI Mask&Wafer Inspection Equipment是一種自動化的精密工具,用於半導體晶片在制造過程中的質量控制和缺陷分析。該系統使操作員能夠快速準確地分析晶片表面的缺陷、雜質、汙染或其他不規則性。KLA SP1T-BI提供高分辨率成像、強大的分析和靈活的用戶界面,以及許多分析工具和強大的成像工作流。該單元包括先進的硬件和軟件,可實現高吞吐量、極快的圖像捕獲和精確的模式識別。它包含：明亮、清晰的圖像檢視機；使樣品快速精確對準的光學級；兩個全場攝像機，以高分辨率和多重設置捕捉圖像；以及PC和工具之間的接口,以便提供可視化、存儲和數據管理。資產還包括一系列分析工具。它提供了三個主要缺陷類別：異物顆粒、一般缺陷和異常特征。此外,操作員還可以訪問三種平面映射技術：多角度照明暗場（MIDF）、正常照明暗場（NIDF）和相移缺陷檢測（PSDD）。這允許組成和/或結構像素級缺陷識別的陣列。分析工具提供了一個直觀的用戶界面來結合自動和手動分析。自動取樣是TENCOR SP1 TBI的另一個方面。采樣可以由用戶根據應用程序和站點的特定要求進行配置。它以每小時5,000晶圓的速度自動對準和獲取圖像,並能夠檢測到6nm以下的缺陷。此外,它還可以去除損壞嚴重的晶片,實際上消除了被拒絕的晶片。KLA/TENCOR SP1 TBI還提供了多個數據管理系統的接口,使操作員能夠高效地傳輸和共享關鍵生產信息。這有助於確保生產線中晶片的質量控制。綜上所述，KLA SP1-TBI Mask&Wafer檢驗模型為半導體晶圓檢驗提供了一種用途廣泛、成本效益高的工具。它提供精確的成像和缺陷檢測能力，並結合自動取樣；它的直觀用戶界面為數據系統提供了一系列分析工具和接口-所有這些都是為了在制造過程中可靠地保證晶片的質量控制。