二手 KLA / TENCOR SP1-TBI #9254918 待售

KLA/TENCOR SP1-TBI是一種掩模和晶片檢測設備，將高分辨率成像與復雜的模式識別算法相結合，檢測半導體晶片和標線上的缺陷。它提供了每小時200晶圓（WPH）的無與倫比的吞吐量,頂級精度為4 nm。該系統采用0.75-1.0 µm高分辨率激光成像裝置，用於離線和在線應用。它專為缺陷檢測和審查而設計,允許操作員快速與同事共享大型映像文件以增強協作。KLA SP1T-BI可確保跨多種功能大小的一致、可靠的缺陷檢測。晶圓成像使用深紫外線激光或常規光源，確保對掩模和其他材料進行成像，而無需額外的光學器件或曝光系統。該機還配備了先進的缺陷分類能力，使用戶可以將審查重點放在感興趣的缺陷上，同時隔離常規缺陷。該工具包括專用的模式匹配軟件,用於檢測關鍵缺陷特征,包括小至4nm的納米結構和特征,並具有卓越的速度和高精度。模式匹配算法使用一組專有的模板和參數，使用差分邊增強來識別各種缺陷。TENCOR SP1 TBI還具有高級缺陷檢測、分類和分析功能。這些包括自動缺陷收集、定量缺陷計量、數據可視化和報告。資產包括自適應數據後處理工具，使用戶能夠細化檢查結果，快速識別、分類和報告缺陷。直觀的用戶界面允許操作員為特定的應用程序自定義模型。用戶友好的觸摸面板界面提供了設備性能的實時反饋,可以輕松調整設置並快速診斷任何潛在問題。TENCOR SP1 TBI提供業界最先進的掩模和晶圓檢測系統。該設備專為大批量生產線而設計,可確保快速、精確、準確的缺陷檢測,確保生產線的產量始終保持較高水平。