二手 KLA / TENCOR SP1-TBI #9257956 待售
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已售出
ID: 9257956
Surface inspection system
Flat panel display, 22"
Computer
Operating system: Windows NT
Argon ion laser: 30 mw, 488 nm
Light tower
SECS / HSMS Interface
Micron view measurement capability
Defect map and histogram with zoom
CD-ROM Drive
Dual Hard Disk Drive (HDD)
Handler, 8":
(2) Sender stations: SMIF Inside load port
(2) Receiver stations: Open cassette
Dual arm vacuum handler robot
Robot arm puck
KEYENCE Ionizer bar
FFU With fault alarm function.
KLA/TENCOR SP1-TBI是一種晶圓和掩模檢測設備,為基於光學的自動化過程監測和缺陷檢測提供了可靠且經濟高效的方法。該系統非常適合先進半導體制造環境中的inoNode過程控制,適合各種設備類型。KLA SP1T-BI是為滿足面罩和晶圓檢驗的要求而設計的。它配備了4K高分辨率光學顯微鏡和專有的基於光學的控制系統,用於先進的成像和缺陷分析。此外,該單元允許自動生成高分辨率圖像,並運行全面的自動對焦算法,以便以極快的掃描速率優化圖像分辨率。TENCOR SP1 TBI集成了先進的圖像處理算法,使其能夠檢測多種缺陷類型,包括模式缺陷、制造缺陷等。此外,該機器能夠識別各種介電層,使其適合先進的過程監測。此外,該工具還支持選擇性蝕刻檢查和測量各種工藝步驟的過量/過量暴露。TENCOR SP1-TBI的軟件組件提供了用戶友好的界面和強大的數據分析功能。它具有多種成像模式,能夠以快速的掃描速度實現精確的圖像捕獲,並支持各種處理技術。資產還具有實時缺陷跟蹤模式和自動缺陷分類。此外,軟件還可以為各層和結構生成詳細的電子性能圖(EPM).SP1-TBI還包括閉環控制系統的過程控制選項,允許在晶片和口罩制造過程中進行調整和校正。這些過程控制選項還允許與制造過程的其他部分集成和數據共享。總體而言,SP1T-BI是基於光學的過程監視和缺陷檢測的理想解決方案。它具有很高的可靠性和成本效益,並且為廣泛的晶圓和掩模檢查提供了一個全面和用戶友好的平臺。KLA SP1-TBI具有先進的成像和缺陷檢測功能,以及強大的軟件和過程控制選項,是先進半導體制造的完美工具。
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