二手 KLA / TENCOR SP1 #87226 待售
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單擊可縮放
已售出
ID: 87226
Classic wafer surface inspection system, 12"
Cassette to Cassette
Software Version: 3.30.1829
Power Requirements: 208/240 V, 24.0 A, 50/60 Hz, 1 Phase
Argon Ion Laser: 488nm
Measurement Chamber with ULPA Filter & Blower Unit
Operator Interface MS Windows NT 4.0
Interactive Pointing Device
Keypad Controls
TFT Flat Panel Display
Parallel Printer Port
Defect Map and Histogram with Zoom Micro View Measurement Capability
X-Y Coordinates
0.18 um Process Technologies & Beyond
0.08 um Defect Sensitivity on Well-Polished Silicon
95% Capture
Up to 150 Wafers per Hour Throughput on 12" Wafers
Brooks Automation Fixload
12" Load Port for FOUPS
Working condition
1997 vintage.
KLA/TENCOR SP1是一種高精度、自動化的掩模和晶圓檢測設備。KLA SP1系統設計用於檢測、分析和報告掩模和晶片表面上存在的任何缺陷。該單元結合了前沿視覺技術以及先進的模式匹配和成像技術，以確保高精度、可重復和可靠的檢查結果。它提供了一整套功能：關鍵缺陷檢測、空間分析、圖像存檔和高級缺陷分類。TENCOR SP 1機利用UV照明和雙波長共聚焦顯微鏡等先進光學檢測技術，對掩模和晶片表面的缺陷進行精確檢測和分析。該工具可捕獲多達8個圖像幀,分辨率高達300 nm。該資產還設有六個多光譜觀看通道的高清相機。該模型提供了四種截然不同的缺陷模式來檢查不同類型的缺陷，包括「視覺」（表面級缺陷如顛簸、敲擊、起泡等）、「結構」（地下缺陷如空隙、分層等）、「災難性」（造成大規模的過程異常）和「預測」（使用戶能夠預見未來的潛在缺陷）。KLA SP 1包括多種指標，如缺陷大小、形狀和位置。自動缺陷分類器使設備能夠區分不同類型的缺陷,從而確保僅報告有效（非假陽性）缺陷。這有助於提高準確性和減少誤報。最後,KLA/TENCOR SP 1系統支持高級報告功能。該單元使用強大的分析生成圖形和其他可用於改進生產過程的匯總統計信息。可以定制報告以滿足特定需求,從而使制造商能夠深入了解重要的流程性能指標。綜上所述,SP1是一種高級掩碼和晶圓檢測機,它提供了一套全面的功能。它利用前沿光學和缺陷分類技術實現高精度、可重復和可靠的缺陷檢測、分析和報告。該工具可以量身定制,以滿足任何生產過程的特定需求,幫助制造商深入了解其操作。
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