二手 KLA / TENCOR SP2 XP #9250197 待售

KLA/TENCOR SP2 XP是一種自動化的掩模和晶片檢驗設備,旨在使制造商能夠識別和表征生產晶片和光掩模上的缺陷。該系統配備了臨界缺陷檢測（CDI）、晶圓掃描（WS）、缺陷審查（DR）和復雜缺陷審查（CDR）四種缺陷檢測模式。Critical Defect Inspection （CDI）模式旨在快速準確地識別光掩模和生產晶片上的關鍵光刻缺陷,這些缺陷可能會因手動檢查而丟失。它利用先進的傳感器和算法來檢測缺陷並將其分類到最小1微米的特征大小。強大的檢測引擎在單個作業中可掃描多達500個晶圓，確保高吞吐量和準確性。晶片掃描（WS）模式為生產晶片提供了一種高效、經濟高效的全面後模式檢查方法。利用先進的技術和強大的算法對缺陷進行準確可靠的測量和分類。該單元每批最多可分析500個晶圓，同時考慮各種幾何形狀。缺陷審查（DR）模式可用於檢查單個可疑模具位置。它利用多個圖像放大級別直至1000X來幫助手動分析單個模具的缺陷特性。強大的光學顯微鏡和縫合機為用戶提供了其晶圓的銳利而細致的圖像。復雜缺陷審查（CDR）模式旨在提供對復雜缺陷或「堆叠效應」缺陷的詳細分析。它利用高級圖像縫合功能來模擬缺陷或特征的象限視圖。這允許用戶快速準確地識別缺陷或特征的大小、形狀和類型。總體而言,KLA SP2 XP是一種高級檢查工具,旨在幫助制造商檢測光掩碼和生產晶片缺陷並將其表征到最關鍵的級別。它提供高效的工作流支持、多種檢查模式和強大的自動化技術,以確保高吞吐量和準確性。資產是制造過程控制和減少缺陷的寶貴工具。