二手 KLA / TENCOR STARlight 301 #9049801 待售

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ID: 9049801
優質的: 1997
Automatic photomask inspection system 208 VAC, 50/60 Hz, 30-39 Amps 1997 vintage.
KLA/TENCOR STARlight 301是專門為滿足半導體制造商嚴格的精度要求而設計的精密的掩模和晶圓檢測設備。該系統包括一系列光學檢測、實時編輯、審閱、缺陷分析和報告工具,可幫助確保遵守最嚴格的流程控制。KLA STARlight 301提供了無與倫比的準確性和性能,用於檢查有圖樣的基板。其先進的光學子系統利用優越的光學元件和高分辨率成像單元來捕獲和數字顯示樣品的高質量圖像。然後可以準確分析這些圖像是否存在缺陷,從而使制造商有信心獲得最佳產量。機器的實時編輯功能允許用戶即時檢查基板的每個區域。高級缺陷分析工具可用於識別和分析可能存在的任何潛在缺陷,如晶體生長或粘附問題。報告功能使監控和跟蹤過程中的結果、跟蹤缺陷級別以及報告潛在問題變得容易。TENCOR STARlight 301還能夠執行深度掃描,這是一個旨在檢測可能埋在材料或基板深處的缺陷的過程。這在半導體晶片的檢測中特別有用,半導體晶片由於其大小或位置可能難以檢測到缺陷。STARlight 301易於擴展,能夠在一次運行中同時檢查數百個晶圓或多個基板。它非常高效,可提供頂級吞吐量,同時仍能產生準確的結果。此外,該工具還具有卓越的客戶服務和堅定不移的可靠性。總之,KLA/TENCOR STARlight 301為基材和晶片的檢測提供了優越的成像和分析能力。它提供了滿足半導體制造商嚴格要求所必需的準確性、性能和缺陷分析工具。其可擴展、高效的設計確保了快速的吞吐量和可靠的結果,並輔以一流的客戶服務和不懈的質量保證。
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