二手 KLA / TENCOR Surfscan SP1 Classic #9147123 待售

KLA/TENCOR SP1 Classic Mask and Wafer Inspection設備是業界領先的光學檢測和評審系統。該平臺用於對先進的光刻光柵、光掩模、晶片和其他圖樣材料進行精確檢查,從而實現了對器件和叠層臨界尺寸（CD）以及設計的經濟高效分析和優化。KLA SP1 Classic設備配備了先進的側向散射成像技術和各種自動掩模和晶圓檢測系統,可提供幹凈、可重復的結果,滿足越來越嚴格的產量要求。TENCOR SP 1 CLASSIC Mask and Wafer Inspection machine提供了豐富的模式檢查和評審功能。所有測量和結果均基於最高的測量精度。先進的成像和檢查技術結合了快速、自動化的粒子和缺陷檢測、特征邊緣分析和透明薄膜厚度測量-所有這些都是在符合人體工程學、用戶友好的平臺中實現的。TENCOR SP1 Classic工具集成了KLA專利的自動粒子檢測資產，該資產旨在快速、經濟高效地識別和測量一系列晶圓上的粒子。先進的算法可以快速分析低到中度的曝光和體積缺陷,而模型的自校準高分辨率光學器件可以提高吞吐量和準確性。為了更好地識別模式,各種自動掩碼檢查系統共享一個硬件,從而實現跨多種技術的一致測量和檢查。SP1 Classic Mask和Wafer Inspection設備作為精密分析平臺，旨在支持單個平臺中的多種檢測工具，節省成本和時間。此功能還允許方便的模式識別和增強的缺陷識別。還提供了多種圖像和分析方法,包括邊緣測量、有效檢查、叠加觀察、逐層查看、平面像素查看、橫截面和傾斜查看,以進行優化查看。KLA/TENCOR SP 1 CLASSIC平臺還包括一套綜合的分析和報告能力，用於精確的模塊級別和晶圓級別的產量優化。自動材料掃描、標記、校準和報告都可以通過系統的直觀軟件實現。智能數據存儲可實現最佳的容量利用率和更快的分析,而批分析和共享可降低與手動數據輸入相關的風險和停機時間。SP 1 CLASSIC Mask and Wafer Inspection Unit是在半導體、光電子、光掩碼和納米技術行業中從事尖端工藝節點工作的工程團隊必不可少的工具。通過此平臺的精確檢查和始終如一的準確結果,用戶將受益於產品開發中提高的總體產率和成本節約。