二手 KLA / TENCOR Teron 610 #9378999 待售

KLA/TENCOR Teron 610是一種掩模和晶片檢測設備，設計用於對先進的光掩模圖樣和晶片進行精確的缺陷檢測和分析。它利用專有體系結構實現高度敏感的邊緣和陣列缺陷檢測,與公差、工藝參數和幾何形狀無關。該系統利用先進的光學和閃爍輻射源，提供高靈敏度的0.35微米成像分辨率。許多成像模式，如場對準、快速掃描和著色校正，使不同類型的掩模和晶片的過程均勻性和模式保真度得到提高。另外，KLA Teron 610還采用了獨特的激光掃描技術，用於缺陷剖面優化和晶圓模式識別。TENCOR Teron 610以至少0檢查各種光掩模和晶圓音符。250微米的音高。每個晶片的最大面積檢查直徑為12英寸,而口罩的最大可用面積為28英寸。通過自動掩模和晶圓處理機優化了設備的吞吐量。Teron 610還提供了一套廣泛的輔助CAD工具、舞臺檢查、三維圖像分析和缺陷審查算法,以及用於檢測錯位針腳、橋梁和其他細微缺陷的幾何檢查算法。KLA/TENCOR Teron 610的用戶界面設計直觀，便於設置、高效操作和批處理。交互式用戶界面還提供復雜的功能,如缺陷審查、統計計算和報告,以及檢查結果的比較。該工具還帶有自動審查和模式識別模塊，有助於識別從一個晶圓到另一個晶圓的重復缺陷。為了提高數據安全性,KLA Teron 610具有可選的網絡接口,可讓運營商遠程控制資產的操作。該型號還支持多種第三方晶圓處理系統。對於任何需要檢測和分析光掩模模式和晶片的環境，它都是一種成本效益高、可靠的檢查設備。