二手 LEICA INS 2000 #293680723 待售

LEICA INS 2000是用於掩模和晶圓檢測的先進成像技術。這臺儀器提供了納米級面膜和晶片的高分辨率成像，使用戶可以精確檢查和測量復雜的特征。INS 2000有2個並排立體聲磁頭,每個磁頭可提供800萬像素的影像。該儀器在高對比度液晶顯示器上顯示圖像，並利用復雜的軟件工具進行圖像處理和分析。LEICA INS 2000提供精確、先進的成像功能,具有高達0.35 µm的成像分辨率、自動圖像縫合和合並,以及專有的最大圖像對比度納米聚焦功能。該成像采用高分辨率激光幹涉儀和精確的Z軸級系統以及一個正在申請專利的像素級配準光學器件實現。自動進行圖像縫合和合並,只需一次掃描即可掃描大型基板。這些功能為掩模和晶圓檢查提供了最佳的圖像。對於掩模檢查,INS 2000能夠檢查高分辨率、復雜的圖樣,並具有最小的叠加錯配。這消除了物理顯微鏡的需要，這可能是耗時和勞動密集型的。具有復雜算法的獨特模式識別工具可以識別模式缺陷並快速識別不一致的過程。此外,自動圖像縫合和合並允許用戶準確測量配準和叠加偏差。此工具支持1D和2D參數分析,並提供可選的焦點檢索選項,以實現最佳圖像對比度。LEICA INS 2000是晶圓檢測的寶貴工具。它可以快速以高分辨率掃描整個晶片，以檢測顆粒汙染物。它還使用戶能夠快速識別和量化晶片表面的缺陷,如劃痕、芯片和蝕刻相關缺陷。此外，它使用專利技術檢測金屬泄漏、空隙和其他汙染物。這些功能使用戶可以在幾分鐘內獲得晶圓的全貌，從而節省時間和金錢。INS 2000是一種用於掩模和晶圓檢測的強大儀器。它提供高分辨率成像以及自動圖像縫合和合並,使用戶能夠快速準確地檢查樣品。其精密的成像工具確保了最佳的圖像對比度和參數分析，而其先進的粒子檢測算法讓用戶能夠快速識別和量化缺陷。對於任何需要精確成像和分析的應用程序,LEICA INS 2000都是非常寶貴的工具。