二手 LEICA INS 2000 #9378304 待售

LEICA INS 2000是一種面罩和晶圓檢驗設備，旨在減少上市時間，提高產量。它包括一個自動光學檢查系統（AOI），能夠結合幾個特點檢查掩模的所有層。該裝置采用自動對準工藝，使用先進的高分辨率數碼相機在掩模和晶圓級精確對準光刻掩模，以實現精確和可重復的對準性能。這樣可確保對蒙版的所有層進行一致的檢查結果。該機還提供了一套嚴格而全面的智能缺陷檢測算法，可以檢測從顆粒缺陷、晶片到邊緣缺陷、橋梁和剪切等多種掩模缺陷。這些算法能夠檢測和標記光刻過程遺漏的任何缺陷。這樣可以確保用戶在釋放口罩進行制造之前能夠快速識別、評估和解決此類缺陷。此外,INS 2000能夠在一次運行中分析多個掩碼之間的缺陷,從而使用戶能夠快速識別其掩碼中的潛在缺陷。該工具還采用了3D渲染功能，提供了更詳細的蒙版和晶圓缺陷的微觀透視，允許用戶清晰可視化缺陷，並相應快速調整檢查參數。此外,LEICA INS 2000能夠在幾秒鐘內生成缺陷摘要。這對於完成掩碼批準過程特別有用。使用此功能,用戶可以快速生成檢測到的異常列表並將其呈現給工藝工程師,以便調整其工藝參數或進一步優化其修復工作流程。最後，INS 2000具有所見即所得的WYSIWYG（What You See Is You You Get）功能，允許用戶在屏幕上即時看到他們的檢查結果。此功能對於提供流程優化的快速反饋循環特別有用。總體而言,LEICA INS 2000是一種綜合性的掩模和晶圓檢驗資產,旨在幫助用戶縮短上市時間並提高產量。憑借其先進的AOI功能、直觀的掩碼分析和所見即所得的功能，INS 2000是需要精確準確檢測性能的用戶的理想選擇。