二手 LEICA INS 300 #9298489 待售

  • 圖為 已使用的 LEICA INS 300 待售
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光罩與晶圓檢測
製造商
LEICA
模型
INS 300
ID: 9298489
優質的: 2005
Wafer defect inspection system 2005 vintage.
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LEICA INS 300是用於微電子制造的最先進的半導體計量面罩和晶圓檢測設備。這臺高度專業化的機器結合了高級光學、高分辨率成像和精確的運動控制,以準確評估各種掩碼和晶圓應用所需的特性。該機具有真空密封、無空氣的環境,可確保光學清晰度和30毫米視野。它的掃描激光組件允許高度成像精度，提供高達0.7微米的分辨率。此外,通用的數字成像系統每秒最多可拍攝10張圖像,從而確保所捕獲圖像的最大保真度。INS 300采用了強大的自定義軟件算法來優化其成像和分析功能。它的復雜算法使它能夠通過各種標準和專有技術快速識別和分析模式和缺陷。其中包括光學分辨率成像測量（ORIM）、傅立葉變換紅外（FTIR）光譜、數字交叉相關（Dictual Cross Correlation，DCC）技術。它還為用戶提供了創建自己的自定義算法以滿足特定需求的能力。為了進一步提高其精度和可靠性，LEICA INS 300配備了各種運動控制器、伺服電機和加速度計。這些組件使設備能夠針對不同的條件快速、精確地調整不同運動的靈敏度。INS 300保證了整體性能、可靠性和準確性。它是各種檢查任務的理想選擇，從基本的光學測試到復雜的計量應用。憑借其卓越的機器體系結構和精確的測量,它可以幫助確保用於制造的掩模具有盡可能高的功能級別。
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