二手 LEICA INS 3000 #9148695 待售

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ID: 9148695
晶圓大小: 8"
Wafer defect inspection system, 8" Open cassette 150x / 0.95 APO 100x / 0.90 APO 50x / 0.85 APO 10x / 0.30 HCPL 5x / 0.12 PL 5x / 0.90 PL.
LEICA INS 3000是一種功能強大的面罩和晶片檢測設備,設計用於晶圓和標線制造。它使用先進的成像技術和主動的數學算法來檢測晶圓和標線中的細微缺陷。該系統包括一個高度敏感的廣域彩色成像單元和一個專利的高頻算法,用於檢測晶圓和標線上的小粒子的外觀。該成像機在晶片表面上的每個像素處捕獲晶片的高質量、寬色域的彩色圖像。通過使用先進的暗場光學器件,使工具能夠檢測振幅和相位缺陷,晶圓上可能存在的任何汙染物都變得更加明顯。成像資產還具有一個正在申請專利的主動測量結構,該結構允許精確的像素配準,並確保圖像不會失真和模糊。通過此功能,模型可確保捕獲的圖像具有最高的分辨率和清晰度。LEICA INS-3000是為提高效率和準確性而設計的。它具有幾個自動檢查周期,可根據客戶的特定需求定制檢查。這確保了晶圓和標線檢查任務的重復和準確結果。該設備還配備了高級流程控制(APC)功能,使系統能夠配置為以高精度和高精度診斷和糾正檢測到的缺陷。INS 3000還集成了晶圓邊緣控制技術。此功能可確保晶片的周長與所討論的標線圖案正確、準確地對齊。此外,該裝置采用雙步驟工藝控制。這確保了即使是最輕微的異常也能比以往任何時候都以更高的速度和精度被檢測和隔離。該機器具有熟練、直觀的用戶界面,便於操作和持續支持。通過一系列直觀的功能和特點,操作員能夠準確有效地管理檢查任務,並實時分析數據和監控進度。該工具還具有內置診斷程序,可在出現問題時提供故障排除信息。綜上所述,INS-3000是一個強大的面膜和晶片檢測資產,設計用於晶圓和標線制造。它能夠準確地檢測和隔離行業領先的細微缺陷。該模型提供了出色的功能,包括自動檢查周期、APC功能、晶圓邊緣控制技術和雙步驟過程控制。它還提供了一個直觀的用戶界面,便於靈活使用,並具有故障排除和診斷功能。
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