二手 CUSTOM / NEXGEN 440 S1 MBE #9233063 待售
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ID: 9233063
MBE Growth chamber
For eBeam deposition of metals
With loadlock
VEECO GEN II Manipulator
Includes:
(2) THERMIONICS LAB INC / TLI HM2 Series eGun TM
(2) 10CC Crucibles with 8" OD CF mounted
(2) Pneumatic shutters
(2) Water interlock switches
Switching e-Gun power supply: 15 kW
Gun controllers filament transformer & cables
(2) X-Y Beam sweep controllers
Flux monitor sigma EIES guardian
RHEED kSA 400
With 30eV power supply
STAIB Gun computer controller
With remote control box
VEECO CAR 3" Dual zone with heater
Power supplies
Controller
Substrate rotation & angle to evaporation / Loading
PFEIFFER MVP 070-3 Diaphragm vacuum pump
PFEIFFER Mechanical-turbo pump with DCU
(2) MKS 999 Quattro
EXTORR XT100 Residual gas analyzer
GRANVILLE PHILLIPS 350 Ionization gauge & controller
NESLAB HX300 E-Guns chiller
OXFORD INSTRUMENTS Cryo-Plex 8, Diode, UHV with burst disc
PFEIFFER MVP 070-3 Diaphram vacuum pump
Holding system at 10-kelvin
Chamber & E-Gun cooling
Manuals
Does not include:
MKS Microvision 1-6AMU RGA
Atomic hydrogen source with automated valve positioner
Chiller for sample & H+ source cooling
Chiller for main chamber cooling
LESKER LVM940 Leak valve
PC System
(2) XHR 60-18 XANTREX power supplies
(3) EUROTHERM controllers
Optitherm III Optical fiber pyrometer
Temperature range: 600°C to 1500°C
GAMMA Vacuum ion pump
150T
Titan DI
(6) CFF
VAT Valve.
CUSTOM/NEXGEN 440 S1 MBE設備是一個最先進的分子束外延系統，用於研究纖薄（厚度小於1 μ m）半導體膜的生長和表征。它是一種多用途、多障礙外延單元，具有可升級的配置，包括負載鎖室、濺射套件、電子束槍、加熱元件、源混合模式雙源沈積、超高空（UHV）集成機控制器等組件。該鎖載室用於最大限度地減少氣體的引入和汙染，並在主真空室中保持穩定的特高壓。這也允許在同一活動中沈積多個測試樣本。濺射套件允許使用多口袋靶子研究鈦金、銀、鉬金、鈀金等金屬。電子束槍也用於在需要時蒸發基材。此外，加熱元件被用於幫助生長更復雜的結構，如雙層，而雙源沈積確保多合金結構的源混合模式下沈積材料的精確組成和層輪廓。除此之外,CUSTOM 440 S1 MBE工具還利用了功能強大的UHV資產控制器。這樣就可以自動操作和精確控制所有真空和沈積參數、數據記錄、與時間有關的操作控制等等。這也為模型狀態和材料沈積提供了實時參數監測，以確保準確的實驗和準確的結果。此外，源-混合模雙源沈積能夠更好地控制層形、溫度、組成，並有助於進一步處理沈積材料，如各向異性蝕刻。而且，它也提供了更好的精度在成長的復雜結構如量子點。簡而言之，NEXGEN 440 S1 MBE設備是一種先進的工具，用於研究薄膜的材料生長和表征。它采用多用途多障礙系統，配有集成的特高壓控制器、各種加熱部件、濺射套件和強大的電子束槍。憑借其精密的設計，它提供了對沈積參數和層的精確控制，並為沈積材料的蝕刻和操作提供了先進的工具。這使得它非常適合研發納米設備和電子應用的材料。
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