二手 OXFORD VG 80H #9173169 待售

OXFORD VG 80H是一種全自動分子束外延設備,為受控厚度、高質量的III-V和II-VI材料的沈積提供了極大的靈活性。VG 80H提供兩個獨立的磁頭，用於沈積多達四層材料的層，以及用於外延生長的高清沈積參數。該系統與塢站完全集成，用於安裝和工藝開發，為用戶提供直接進入沈積室和保護環境的通道。OXFORD VG 80H的沈積源是基於脈沖電子束源（PEB），使得廣泛的生長參數可以選擇，而不會影響表面形態。PEB源具有可調的脈沖振幅、重復率和頻率，使得控制離子密度和停留時間創造先進結構成為可能。氮和砷噴槍系統對沈積層的組成提供了先進的控制。可以達到高達1000 °C的溫度，允許許多先進的處理技術，如成長漸變或超級晶格結構。這兩個磁頭為用戶提供了探索材料和工藝設計的靈活性，以確保實現最佳的薄膜沈積。VG 80H有一個計算機控制的材料沈積自動化單元，允許精確控制外延膜的生長參數。自動化機器為用戶提供了以不同厚度和密度生長多層不同材料的靈活性。自動化生長工具還允許通過主動控制氮和砷槍進行摻雜，使使用者能夠控制原位摻雜，從而控制薄膜的電性能。該資產還通過原位反射高能電子衍射（RHEED）對薄膜成分和質量進行先進的監測。這為預期和實際增長結果提供了穩定性和反饋。隨著時間的推移,可以查看來自探測器的數據,以確保可以跟蹤和優化過程中的變化。OXFORD VG 80H設計可靠且無維護。它具有先進的技術設計，是用於研究和工業環境的可靠模型。這使得它非常適合生產先進的III-V和II-VI材料生長。