二手 OXFORD / VG SEMICON V100 #9036615 待售
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已售出
ID: 9036615
晶圓大小: 5x3"
優質的: 2010
3-Stage Molecular Beam Epitaxy (MBE) System
Currently configured for 5x3" wafers
Other capabilities : 1x6", 3x4", 5x3" or 12x2" substrate wafers at a time
CBr4 Source
Deposition chamber
Preparation chamber with (2) fast entry locks
Outgas stage
System bench
Control rack
Computers
Custom control software or OEM
Control Rack Modules
UHV Pressure Controllers
Shutter Controls
Valve Controls
Transfer Controls,
Pumpdown / Vent Controls
RHEED Gun Supply
RGA and temperature monitoring
4- Loop Thyristors
UPS Interface
Multi-Gauge,
Autoranging Picoammeters
(1) SRS RGA200 Quadruple Mass Spectrometer
(1) Applied Epi RF Plasma Source Tuning Unit
(3) Powerware Prestige EXT UPS Supplies
(1) Neslab CFT-150 Recirculator
(1) CTI 9600 Compressor
(3) Busch Diaphragm Pumps
(4) Heavy-Duty Transformers
Liquid Nitrogen System Components
Continuous power supply battery back up
LN2 phase separator
Controllers
Pumps
Manuals
415V, 50/60Hz.
OXFORD/VG SEMICON V100是一種精密的分子束外延（MBE）設備，設計用於先進的薄膜沈積工藝。利用高真空、低壓、超高真空技術，結合應用特異性工藝技術的高可靠性主機。OXFORD V 100提供了一系列的工藝能力，例如擴展的面積陣列工藝、傳導層增長工藝和高質量的表面飾面。這些過程基於分子束外延技術，在超高真空室中，所需材料的薄膜沈積在基板上。加熱到適當溫度的底物暴露於使用高強度電子束和其他源蒸發的前體分子的入射束中。VG SEMICON V 100提供了兩個隔離的超高真空室，以實現可靠和可重復的工藝均勻性，兩者均配有不同組的工藝模塊，以確保對所需參數如沈積速率、背景壓力、基板溫度等的最佳控制。它還具有電氣模塊、加熱模塊和強大的熱電偶模塊，以準確監測和調節室內的溫度均勻性。V100具有許多高級流程控制功能。這包括一個多氣體註入系統，允許以高度控制的方式為各種氣體輸送多種氣體，對氣體進行自動流動控制，控制電子束的強度和大小，以及一系列過程參數，以準確監測過程啟動、穩定和終止過程。OXFORD/VG SEMICON V100是需要高精度、先進和可靠的薄膜沈積MBE單元的用戶的理想選擇。這臺機器的特點允許擴大應用範圍，例如半導體生產、藥物和生物技術生產、先進的電子、光電、平板顯示器等。OXFORD V 100提供的強化工藝控制確保了絕對高質量薄膜的可靠和可重復沈積。
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