二手 RIBER 2300 #9246157 待售

製造商
RIBER
模型
2300
ID: 9246157
Molecular Beam Epitaxy (MBE) system Configured for GaAs.
分子束外延(MBE)是一種在基板上沈積薄膜的技術。在這種方法中,一個樣品在室溫下被氣體種類的分子束(如III和V族元素)轟擊,以沈積一層材料的薄膜,並具有非常高的控制度。RIBER 2300 MBE設備是一種高性能的薄膜沈積工具,用於生產具有精確控制的組成、厚度和晶格結構的外延層和納米結構。2300有一個模塊化的設計,以最多4個積液池、2個四蒸發器和一個離子源的群集為基礎,位於裝有可移動晶片支架的基腔周圍。它還具有閉環冷卻系統,為樣品提供均勻的溫度,確保沈積條件保持穩定。MBE系統中產生的高溫要求軟件控制,可以處理高達1500C的溫度。RIBER 2300配備了多通道數字溫度控制器,能夠控制多達10個區域,加熱速率高達每秒50C。這確保了控制溫度過程的最高精度。再者,2300還配備了獨特的電阻加熱基板支架、原始的俄歇電子分析儀、電等離子體輔助源和高壓分子束源。這些功能實現了操作靈活性,使RIBER 2300成為半導體結構、磁性隧道連接和高級超材料MBE增長的強大工具。2300還具有高度符合人體工程學的設計,使用戶可以輕松直觀地控制沈積參數。該裝置配有直觀的軟件,可直接與機器接口,並能夠實時監測和控制沈積過程。圖形用戶界面(GUI)允許快速、輕松的用戶交互,同時提供可信的信息以成功操作。RIBER 2300是研究人員尋找通用、可靠、高性能MBE工具的理想選擇。它提供了沈積參數的精確控制和沈積過程的實時監控,從而實現了精確、可重復的薄膜沈積。
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