二手 RIBER 2300 #9377151 待售
網址複製成功!
RIBER 2300是為研究和生產應用而設計的分子束外延(MBE)設備。該系統配備了超高真空裝置,能夠承受低於10-7毫巴的低殘壓。這是必要的,使反應性物種能夠有效地接觸,而不與腔壁發生反應。該機器包括一個溫度控制的錐體感應平臺,允許在高達1100 °C的溫度下生長。MBE工具還提供了一種高效的氣體輸送資產,具有多種金屬和有機前體,可促進增長。將活性氣通過熱裂解器送入腔室,以實現最佳的束流控制。2300具有晶圓跟蹤模型和碰撞檢測功能,以保護加工後的材料不受汙染。為了準確表征基板上生長的層,設備配備了原位X射線光電子光譜(XPS)系統。這有助於確定MBE生長過程中形成的層的生長條件和組成。此外,RIBER 2300還配備了一個GUI控制的機動化樣品穿梭裝置,允許高效的樣品裝載和進出機器。這也支持在單個基板上多層結構的增長。2300還包括流程監控軟件功能,這些功能可自動支持各種增長和特征描述過程,包括MBE增長和XPS分析。此工具可實時監視和控制影響成長層質量的各種變量。總體而言,RIBER 2300 Molecular Beam Epitaxy資產是一種先進的、設備齊全的模型,用於薄膜、層狀結構的生長和表征,用於一系列研究和生產應用。該系統具有監測和控制生長參數及現場XPS設備的能力,非常適合研究各種電子結構。
還沒有評論