二手 RIBER 302 #9153863 待售

分子束外延技術（MBE）是一種用於制造半導體器件和光伏的物理氣相沈積（PVD）方法。它允許工程師和科學家在原子水平上控制薄膜材料的分子結構。RIBER 302 MBE設備是一種現代沈積機，用於制造物理層材料，用於現代半導體器件。302 MBE系統在真空室中運行,需要高度的過程控制。真空室內部是一個包含多種物質來源的基板支架，包括分子積液細胞、石英船和電子束蒸發器。另外，RIBER 302 MBE單元包括了多種氣源，如氫、氙、氮和氧。這允許在沈積過程中發生復雜的反應過程。沈積過程從單層原子開始，這些原子已被基板支架激活。然後以大約1毫米/秒的速度在底物上掃描分子源。一束分子被引導到底物表面，分子粘附並形成薄膜層。一旦第一層成功完成，第二層就會沈積在上面。重復此過程以形成所需的材料結構。通常，沈積的層數取決於需要得到的具體材料及其特性。302 MBE機是工具設計者創造高質量、先進半導體器件和光伏的關鍵設備。該資產配有射頻濺射源，允許金屬沈積在半導體晶片上。這樣可以在各種設備中實現更高的韌性和更好的性能。此外，RIBER 302 MBE模型配備了激光幹涉儀，用於測量制作蝕刻結構時材料層的厚度。該設備還可以與光學發射光譜儀串聯使用，用於確保薄膜的純度。302 MBE系統是為制造和設計半導體器件而設計的極其精確和復雜的儀器。它允許工程師對各種材料進行試驗，並在原子水平上形成完美的結構。此外，該裝置還配備了一系列氣體和物質來源，以便在沈積過程中發生更復雜的反應過程。最終，RIBER 302 MBE機器允許高效制造高質量、先進的半導體器件和光伏。