二手 RIBER 49 #9307797 待售

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製造商
RIBER
模型
49
ID: 9307797
晶圓大小: 8"
優質的: 2001
Molecular beam epitaxy system, 8" Materials: Indium, GaAs, Aluminum Operated with programmable shutter controller Max substrate temperature: 1000°C Manipulator: LN2 Cooled As and Sb Crackers included (16) Supplies for cells (3) Prep chamber heater and manipulator (3-4) Spare controllers (2) Ports: 3"-6" 7"-8" 2001 vintage.
分子束外延(,MBE)是一種用於在基板表面上生長化合物或原子層,以形成具有電子和光電性質的高質量界面的技術。RIBER 49是一種最先進的MBE設備,旨在以多用途和經濟高效的方式生產高質量的外延層。該系統具有多源沈積能力,能夠從多達10個獨立的來源沈積各種材料。這允許沈積非常復雜的材料,如復雜的合金,超晶格和納米結構。該機組配備了一系列源,包括用於快速沈積的高效源、用於高溫沈積的電子回旋共振源、用於超高真空沈積的超低壓源。此外,49能夠在一定範圍的基板溫度下運行,從而可以優化晶格匹配和更復雜的生長技術。該機配備了實時監控工具,可實時進行溫度壓力控制和工藝參數優化。為保證生長質量,樣品室配備了先進的氣體註入資產,能夠引入超純氣體進行高溫生長。這樣可以更好地控制表面氧化和其他環境影響。此外,該模型還配備了一系列診斷工具,如光學顯微鏡、楔形裂解剖面儀、二次離子質譜和掃描電子微觀。這些可用於監測生長,從而能夠實時增強沈積參數。RIBER 49允許超高質量外延層極精確的沈積。它提供高性能、靈活性和成本效益,非常適合研究實驗室和大學。49具有廣泛的特性和功能,可用於各種研究和制造應用,並可為各種應用需求提供無與倫比的增長質量。
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