二手 RIBER 49 #9395706 待售

製造商
RIBER
模型
49
ID: 9395706
晶圓大小: 8"
優質的: 2001
Molecular beam epitaxy system, 8" Materials: Indium, GaAs, Aluminum Operated with programmable shutter controller Max substrate temperature: 1000°C Manipulator: LN2 Cooled As and Sb Crackers included (16) Supplies for cells (3) Prep chamber heater and manipulator (3-4) Spare controllers (2) Ports: 3"-6" 7"-8" 2001 vintage.
RIBER 49是由RIBER SAS製造的分子束外延(MBE)設備。MBE是一種在微觀水平上在受控大氣中生產高質量單晶薄膜的方法。它被用於半導體和光電工業,用於生產各種材料,如矽、砷化氙、氮化氙和磷化銨。另外,49可以用於制造石墨烯、過渡金屬氧化物和量子點。RIBER 49由四個主要部件組成:超高真空室、超高真空站、電子束蒸發器和生長監測器。特高壓腔室設計為以1x10-9 torr的真空壓力運行。這為形成單晶提供了非常幹凈的環境,並消除了空氣和大氣中其他分子的汙染。UHVS是容納所有系統組件的主要控制單元,便於進入腔室進行樣品處理。電子束蒸發器用於控制原料在基板上的沈積速率,減少離軸擴散。最後,生長監測器提供了晶體生長過程的實時數據,如超高壓腔室的壓力、運動和溫度。49與其他MBE系統相比非常高效和經濟高效,因為它可以在一小部分時間內生產出高質量的薄膜。此外,UHVS在UHV腔室內提供精確的壓力控制和溫度調節,同時還為用戶提供強大的顯示和可靠的控制單元。RIBER 49可以加工直徑最大為4英寸的基板,可以容納多種配置和控制設計。該機適應性強,可用於制造多種材料和結構。最後,49的內置軟件提供了一個易於使用的界面,允許用戶實時監控晶體生長過程的數據。總之,RIBER 49是在受控環境下生產單晶薄膜的高效、經濟高效的工具。它非常適合半導體和光電工業,可用於制造各種材料。此外,內置軟件還提供了包含實時數據的直觀界面,從而可以精確控制整個過程。
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