二手 RIBER 49NT #9103304 待售
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ID: 9103304
優質的: 2000
MBE growth chamber, 4"
4" x 4" Multi-wafer
49NT Growth chamber: GaAs based MBE
(3) Cryopanels: main, manipulator, pumping well
Cell dividers
Contains residual arsenide deposition inside
Ports have been blanked off with CF blank flanges
(4) Valved arsenic sources: (3) VAS2000 + (1) VAC2000
Ion pump: Riber, 900 L/s (bake-out shroud)
Ion pump: Riber, 400 L/s
Turbo pumping system: Alcatel Drytel 100
Turbo pump: Alcatel 5030CP
2000 vintage.
RIBER 49NT是為半導體材料和器件研發而設計的分子束外延(MBE)設備。它是一個分子水平的沈積系統,一次將一個原子沈積在基質表面上,形成結晶材料的薄層。該單元由沈積源、自動快門機和射頻等離子體源組成。該工具有兩個模塊,包含兩種不同類型的積液細胞,以同時沈積多個產物。主要成分由四個Knudsen電池(K-cells)組成,用於Ga和Al的順序沈積,作為III-V基團半導體材料的構件。第二個模塊包含兩個Knudsen電池(C-cells),其中Te、Sb、In被沈積以形成II-IV型合金和合金。提供了一個自動射頻快門設備,用於控制三-V和二-IV材料按任何所需順序沈積的快門。高壓射頻等離子體源有助於降低基壓,提高晶體質量。設備中內置了原位晶體生長監測模型。安裝在腔室中的AFM用於監控晶體在符文中的生長,以便進行質量控制。該系統還允許在晶體生長過程中控制晶體取向(歐拉)。此外,封裝還為樣品的熱、光、光和電特性提供了排氣裝置。該機設計用於超高真空,底壓<5 x 10-11 Torr。工具的溫度範圍介於RT和1000˚C之間;一個超高真空加熱器有助於達到1000˚C的溫度。該資產還配備了用於在模塊之間傳輸晶圓的機械臂。49NT用於需要開發和研究半導體材料和器件的各種行業。它是研發項目的重要工具,被認為是市場上最先進的MBE系統之一。
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