二手 VEECO Gen II #293773662 待售

製造商
VEECO
模型
Gen II
ID: 293773662
晶圓大小: 3"
優質的: 1982
Molecular Beam Epitaxy (MBE) system, 3" Materials: Al, Ga, In, GaTe, Be, As, Sb Auxiliary chamber Growth chamber: (2) Shrouds / 8-Cell ports Manual wafer transfer Manual valve Load Lock chamber Water cooled manipulator with heater, 3" (8) Effusion cells, 2" (4) Upward looking effusion cells InALGaAs with Si / Be (3) Ion pumps (2) Cracker Cells (2) Automated valve positioners (2) Ion pumps / Controllers (3) Sorption pumps QMS 6-Wafer load lock O2 Plasma source Cracker cells: H2S, H2S3 EUROTHERM Temperature controller PC 1982 vintage.
VEECO Gen II分子束外延(MBE)設備是一種先進的薄膜沈積工具,設計用於復合半導體材料的外延生長,具有高精度、純度和控制能力。MBE是半導體器件制造的一項關鍵技術,它能夠以原子級的精確度生長出薄薄的材料層。第二代系統是VEECO Instruments Inc.開發的第二代MBE系統,VEECO Instruments Inc.是先進薄膜沈積和測量解決方案的領先供應商。VEECO Gen II在最初的Gen I單元成功的基礎上,為前沿的研究和生產應用程序提供了增強的性能、先進的功能和更高的可靠性。第二代機器的一個主要特點是超高真空(UHV)環境中外延生長過程的發生。特高壓環境對於盡量減少雜質和汙染物的存在,確保沈積薄膜的高純度至關重要。該工具配備了先進的抽水設備,包括冷凍泵和離子泵,以達到和維持MBE工藝所需的真空水平。VEECO Gen II模型還具有高溫積液池的特點,用於蒸發元素源如砷、​​零、的、的。這些元素源以固態棒或粉末的形式供應,在積液池中加熱,產生原子的分子束,在基板表面凝結形成外延層。可以精確控制積液池溫度,調節材料通量,優化特定材料組合和層結構的生長條件。此外,第二代設備還配備了多個百葉窗和光束通量監測器,用於控制外延層的沈積速率和厚度。百葉窗用來有選擇地阻擋或允許分子光束到達底物,從而能夠精確控制生長過程。光束通量監測器對沈積物料的通量和均勻性提供實時反饋,從而對生長參數進行準確的監測和調整。除了先進的沈積功能外,VEECO Gen II系統還具有一個全面的控制和監控單元,允許用戶輕松創建和執行復雜的增長配方。該機配備了一個用戶友好的界面,用於編程增長序列,設置沈積參數,實時監控關鍵過程變量。先進的軟件算法能夠自動優化增長條件,以實現所需的材料屬性和設備性能。總體而言,第二代分子束外延工具代表了研究人員和設備制造商的一個最先進的工具,他們尋求開發高質量的半導體材料和設備,對材料組成、層厚度和晶體質量進行精確控制。其先進的特性、高可靠性和用戶友好的界面,使其成為納米技術、光電、半導體器件工程等領域廣泛研究和生產應用的寶貴資產。
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