二手 VEECO Gen II #293821248 待售

VARIAN/VEECO GEN II分子束外延（MBE）設備是一種高度先進的多用戶沈積系統，用於摻雜和沈積各種半導體材料。這種最先進的MBE裝置能夠精確控制沈積環境，從而實現高質量的層，具有極好的可重復性。這臺機器允許沈積高質量、均勻的半導體材料層，如砷化氙和砷化氘。沈積過程在真空室中進行，在真空室中，要沈積的基板放在加熱的支架上。凱撒制造的三種噴射細胞與工具一起使用；一個砷、一個移植物，以及一個移植物。這三個單元的組合使用戶可以靈活地創建復雜和特殊的薄膜結構。MBE資產的底壓維持在4-6 x 10-7 mbar，並采用單獨的負載鎖定模型進一步降低壓力，然後再插入真空室。此外，該設備還包含一個熱氧化裝置、一個臭氧發生器和兩條氮管線，以協助表面制備和生長增強。基板支架采用電加熱，用一系列熱電偶控制溫度，允許樣品所有區域溫度均勻，從而為薄膜沈積提供精確控制。預置溫度在200 K至1,000 K之間。此外，VEECO GEN II設備配備了最先進的軟件包，為控制源排放和沈積過程提供了多種有用的功能。該軟件包括一套用於模擬增長過程、定義層結構和執行各種參數計算的綜合工具。使用強大的參數化優化功能，用戶還可以開發其薄膜結構的詳細模擬，使他們能夠最大限度地提高樣品的性能。它還允許用戶創建圖形用戶界面，以便為他們提供設置和監控實驗的便捷方式。VARIAN GEN II MBE系統的設計滿足了廣泛的科學和工業要求,使用戶能夠將其研究應用提升到一個新的水平。這個先進的單元能夠產生高質量的結果，並提供了靈活分配不同的材料，原子按原子，以便創建復雜的薄膜結構。