二手 VG SEMICON / OXFORD V100 #293615569 待售

VG SEMICON/OXFORD V 100是一種分子束外延（MBE）設備，主要用於半導體材料的薄膜沈積在矽或砷化的底物上。它采用兩級源排列，頂部為高溫反應物源，底部為低溫源。在真空條件下，在~ 3 × 10^-7 torr的壓力下進行沈積。在這個系統中，有兩個半球透鏡將分子光束聚焦在樣品表面上，以及用於反應物源和生長室的加熱/冷卻線圈。OXFORD V 100配備了多種過程控制儀器，如壓力測量單元、原位石英晶體微天平（QCM）、吸氧機、原位反射儀和石英晶體溫度計。原位QCM用於測量薄膜的質量沈積速率和組成，而原位反射儀則用於監測表面形態。吸氧器工具可用於保持生長室內的低氧濃度，以防止沈積過程中半導體薄膜氧化。石英晶體溫度計可用於監測反應物源和室內溫度。VG SEMICON V100主要被MBE用於生長半導體材料如矽和砷化的薄膜。這些薄膜通常非常薄，通常只有幾個原子層厚，需要非常精確地控制生長參數，以確保薄膜的正常生長。V100也適用於其他材料如砷化鋁、氮化銨和氧化鋁的薄膜生長。總之，VG SEMICON/OXFORD V 100是一種精密的MBE資產，可用於半導體和其他材料的薄膜的沈積。它配備了一系列儀器，以確保精確的過程控制，這是高質量膠片成長所必需的。