二手 ABLE ASS-303 #9156831 待售

ABLE ASS-303是一種用於生產高精度微電子元件的高分辨率、自動化、最先進的光刻設備。光致抗蝕劑系統將光敏感的化學物質暴露在圖樣或遮罩上，通常是激光刻在標線或薄膜上，然後在開發時產生物理上產生的三維物體。ASS-303設計符合光刻膠工藝的效率、準確性和質量的最高標準。ABLE ASS-303利用激光系統,由1064 nm Q切換固態激光器,加上變焦、聚焦和全光圈圖像單元組成,以便對曝光區域進行微調。ASS-303中使用的激光能夠在高達150 ng的分辨率下進行高精度曝光，並與精密的控制系統相結合，以實現精確的曝光和精確的反射率控制。ABLE ASS-303還配備了薄膜框架機（FFS）,它是專門為最大限度地提高曝光過程的精度和精確度而設計的。該FFS是一種精密定位工具，精度高達3微米。FFS為操作員提供了在標線或薄膜中精確定位激光曝光區域的能力。此外,FFS還通過控制快門速度來優化曝光時間,以確保大型生產運行的均勻性,並最大限度地減少出錯的可能性。最後,ASS-303提供了一系列定制設計的功能,以滿足最苛刻的生產運行的需求。這些特性包括集成的激光掃描資產，它允許更高分辨率的曝光，更精確的點束控制，以及能夠以極高的精度定義曝光區域。此外，ABLE ASS-303還提供各種分析工具，包括統計分析工具、光掩模檢查模型和自動曝光設備。總體而言，ASS-303光刻系統為制造高質量的微電子元件提供了一個精密、高精度的單元。機器的特性保證了該過程以最高的精度和效率進行。此外，ABLE的先進功能ASS-303使其非常適合工業和科學用途，為幫助生產最先進的組件提供了可靠的工具。