二手光阻劑待售
光致抗蝕劑是半導體制造業使用的關鍵材料。它在光刻過程中起著至關重要的作用，在集成電路（ICs）的制造過程中用於在半導體晶片上創建復雜的圖樣。它通常由聚合物基質與光敏化合物混合而成，稱為光活性化合物（PACs）或光酸發生器（PAGs）。這些PAC或PAG負責抗蝕劑在暴露於特定波長的光下的溶解度變化。在光刻過程中，一層薄薄的光刻膠被紡成晶片表面。抗蝕劑最初處於液態，流動形成光滑均勻的薄膜。接下來，晶圓通過光掩模暴露在紫外線（UV）光下，其中包含所需的圖案。光使抗蝕劑中的光活性化合物生成酸或其他反應性物質。然後這種酸催化一種化學反應，改變抗蝕劑的溶解度。曝光後，晶片經歷了一個顯影步驟，其中暴露在光照下的部分光致抗蝕劑溶解在顯影溶液中，留下了想要的模式。剩余的抗蝕劑在隨後的蝕刻或離子植入過程中充當保護層，將圖樣轉移到下面的材料上。光致抗蝕劑的性能，包括分辨率、線緣粗糙度和對光的敏感性，對制造的IC的整體質量和產量至關重要。正在進行的研發工作著重於改善這些特性，以滿足半導體行業日益增長的需求。
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