二手 ALLIED SIGNAL ElectronCure 30X-150-A-II #167086 待售
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ID: 167086
E-beam photoresist curing system, non-operational
Electron beam exposure system capable of exposing large area substrates uniformly at precision dose for curing coatings and hardening photoresist
Variable beam voltage 0-30 KV in 100V steps
Computer controlled, fully automatic
3" to 6" round wafers
4" x 4" square plates
Operates at 55 millitorr vacuum
De-installed.
ALLIED SIGNAL ElectronCure 30X-150-A-II光刻設備設計用於電子包裝基板的精確熱處理,包括多層板、IC封裝和鉛架訂單。它利用基於專有樹脂的先進光化學，結合精確的溫度和曝光設置，取得優異的效果。該系統具有雙面曝光功能,加熱和冷卻選項最高可達150 °C。它能夠在功能小至2毫升（50 µm）的基板上制作標準和定制圖像。該機配備了先進的成像單元，如基於PC的高級模式發生器、半色調蒙版、二進制蒙版和線條藝術設置。先進的直接成像技術可以極精確地調整曝光時間和強度。溫度控制單元在基板兩側保持精確的溫度範圍，並熱控制暴露過程，在厚度、紋理和特征各異的基板上產生優異的效果。ElectronCure 30X-150-A-II為復雜的電路板和封裝提供卓越的分辨率和高清成像。該機器具有先進的多功能性，例如：自動可重復性、均勻曝光和易於使用的操作員控制。整個機器設計可靠，可重復曝光和長期穩定。機器的另一個重要特點是抗除氣。除氣是處理IC封裝和鉛架等半導體元件時常見的問題。放氣會影響光刻膠線定義的質量，造成特征缺陷。ALLIED SIGNAL ElectronCure 30X-150-A-II提供了較低的除氣速率以提高可靠性。總體而言,強大可靠的ElectronCure 30X-150-A-II光刻膠工具非常適合需要高精度熱處理的商業、工業和研究應用。它提供了廣泛的曝光速度和溫度，以達到最佳的分辨率和準確性。該機還提供了良好的工藝重復性和抗除氣可靠的結果。
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