二手 AND ASP-2000LX #9375096 待售

和ASP-2000LX是一種標準的光阻設備，包括一個先進的光成像系統（APS）和一個激光曝光單元（LEU）。光敏材料是一種光敏材料，用於制造電子元件和微電子學。ASP-2000LX是在晶圓表面上繪制復雜抗蝕劑圖樣的理想解決方案。這種光致抗蝕劑單元提供了一種快速、準確的方法，以高精度和可重復性的方式來繪制晶片。該機配備了400萬像素的USB2攝像頭，可提供良好的圖像分辨率和出色的曝光精度。用戶最多可以選擇六種最大尺寸為5.5x6.8英寸的光學掩碼,以實現柔性掩碼模式。AND ASP-2000LX配備了波長變化從532到1060 nm的高性能激光源。激光將抗蝕劑圖樣暴露在晶片上，具有2 µm ±的良好重復性和10 µm以內的緊密配準控制精度±。該工具還提供各種曝光模式，以容納不同的晶片。激光是高度可配置的,並且可以針對單曝光和多曝光設置進行預編程。ASP-2000LX還具有處理單元（如Expose、Development和Align等）的無縫集成功能。The Expose unit is used to apply a thin minic of photoresister on the wafer surface.「開發」單元用於使用化學藥品去除暴露的光刻膠,「對齊」單元用於檢測晶圓與掩模之間的對準誤差,以確保曝光精度。與傳統的光刻工藝相比，這種光刻資產具有多種優勢。該型號緊湊,允許快速設置和拆卸時間。工藝可以在15分鐘內完成，晶圓表面質量與激光光刻相比有了很大提高。ASP-2000LX抵抗和開發不同的材料和尺寸，使其成為一個多用途，靈活的設備。此外，該系統不需要額外的化學品，而且能夠自動生產。ASP-2000LX是一個可靠的，標準的光阻單元，非常適合復雜的，高精度的抗蝕劑圖案。它提供快速的安裝、高分辨率、出色的可重復性和自動化的生產能力。它既適用於小型和大型晶片，也可用於創建高精度的廣泛復雜模式。