二手 APET NEO 2000 #9198056 待售

APET NEO 2000是專為半導體工業而設計的光阻設備。它是一種化學放大的正音光刻系統，對短而深的紫外線（UV）輻射高度敏感。APET NEO-2000提供低溫處理功能,使其成為溫度敏感設備的理想抵抗裝置。常用於各向異性幹蝕刻工藝。NEO 2000由光刻劑顯影劑、蝕刻溶液和酸三部分組成。光刻膠顯影劑是一種化學溶液，用於覆蓋晶片表面。這種顯影劑的主要成分是聚乙烯酚（PVP）和一種酸性鹽。這種溶液使光致抗蝕劑在暴露於紫外線輻射下成為反應性的。蝕刻溶液是含有一定比例的酸和緩沖液的化合物。加入酸和緩沖液可以在晶圓表面上蝕刻薄膜。機器中使用NEO-2000酸是鹽酸。這種酸溶解暴露在紫外線下的光刻膠，使蝕刻溶液可以接管並蝕刻薄膜在晶片上。APET近地天體2000工具需要紫外線或深紫外線輻射源。這種輻射源用來暴露光刻膠在晶圓表面上創建圖樣。這種輻射源通常位於真空中，必須控制溫度才能使反應有效。由於其出色的分辨率和低溫處理，APET NEO-2000被廣泛應用於半導體行業。它是一種經濟高效的方法來產生復雜的結構具有出色的分辨率和細節。NEO 2000是半導體工業的寶貴工具。它具有低溫處理和優異分辨率的特點，非常適合制造復雜的結構。NEO-2000非常可靠且經濟高效,是半導體行業中任何人的明智選擇。