二手 ASML XT 1900Gi #9401777 待售

ASML XT 1900Gi是為制造微芯片而設計的高性能光刻工具。它是最先進的光刻設備，最大成像分辨率為250納米。該系統采用超短紫外線激光器，以及一套先進的工藝控制和測量協議，使其能夠快速準確地曝光光刻膠和其他材料，從而在基板上形成錯綜復雜的圖案。ASML XT:1900GI能夠使用多種材料，從傳統的有機光刻膠到更現代的合成納米晶體和塊狀共聚物光刻膠。該單元由浸入式光刻平臺組成，配有用於模式對準和配準的先進視覺機。對於掩模對準，XT1900 GI使用高級結構光成像工具，在曝光期間連續監視和調整掩模位置。資產還利用廣闊的視野攝像頭，可以查看整個基板區域，從而能夠精確定位和監控小特征。此外,XT:1900GI還包括一個先進的光刻工藝控制模型,使用先進的建模和模擬功能,可確保高圖像精度,即使材料不同。該設備還能夠通過先進的計量系統快速進行晶片對晶片的重整和監測過程波動。該單元還具有一個集成的自動化平臺，具有管理光刻工藝的硬件和軟件控制的高級框架。這使得機器能夠快速、輕松地與其他流程設備和遠程系統集成，如自動化分析系統，延續小型化的趨勢，提高工具的吞吐量。ASML XT1900 GI是現代半導體晶圓廠可靠、準確、高效的新型光刻資產。它用途廣泛，能夠精確加工各種材料，分辨率甚至能夠產生最復雜的圖案。結合先進的過程控制和自動化功能,XT 1900Gi是尋求最高質量和產量的芯片制造商的絕佳工具。