二手 BREWER SCIENCE CEE 100 #9265628 待售

BREWER SCIENCE CEE 100光抗蝕劑是一種化學放大、負功、幹膜抗蝕劑系統，旨在滿足微電子、微機械和光學行業的需求。它提供高分辨率和高產率、低曝光後延遲、優越的成像過程緯度以及最小的線寬和線緣粗糙度。抗蝕劑由樹脂和顯影劑兩種不同的組分組成。樹脂通常是攜帶負電荷的聚合物，帶有離子鍵合表面活化添加劑。這種組合有助於光刻膠吸收光，從而產生潛像。以其抗蝕劑的形式，樹脂被塗抹在基板之上的薄層中，如晶圓。當暴露在某種紫外線波長的光下，樹脂吸收光而變成固體質量，也就是濕的圖像。然後將顯影劑應用到濕的圖像上,並保留在暴露的區域上,這樣顯影劑中只覆蓋未暴露的區域。開發人員幫助移除抗蝕劑的非暴露部分,以顯示原始圖案的圖像。BREWER SCIENCE CEE-100光刻膠的優點是其過程緯度和低曝光後延遲。它具有高分辨率,最小特征尺寸為0.5 um,產量高.它具有最小的線條和邊緣粗糙度,並提供出色的成像.它還具有較長的保質期，相對容易加工。工藝緯度對於光刻極為重要，因為它確保無論曝光條件如何，都能產生高分辨率圖像。CEE 100光抗蝕劑適用於多種應用，包括標線面罩和步進和掃描面罩、微機電系統（MEMS）、光盤、邏輯和內存芯片、薄膜晶體管（TFT）幀和功率半導體芯片。也用於高能電子束光刻、低能電子束光刻和液浸光刻。總之，CEE-100光致抗蝕劑是尋求高分辨率圖像的理想產品，同時具有最小的線寬和線緣粗糙度。它適用於短期和長期性能要求,同時易於處理。其保質期長，是廣泛應用的理想選擇。