二手 BREWER SCIENCE CEE 100CB #293620102 待售

BREWER SCIENCE CEE 100CB是一種先進的多組分光刻設備,專為一系列光刻應用而設計。光致抗蝕劑是通常用於在半導體、MEMS/NEMS和顯示器等應用上開發圖樣的材料。BREWER SCIENCE CEE 100 CB是一種用於光致抗蝕劑應用的正音環氧化物溶液。適用於平面和3D表面的低溫光刻。該系統的組分包括一個novolac環氧化物，一個Schiff堿胺和一個無色表面活性劑。Novolac環氧化物具有出色的耐蝕刻性能和光速穩定性,可精確控制蝕刻輪廓。此外,CEE 100 CB的低熱吸收率可防止表面變形。Schiff堿基胺被用作光酸發生器，以進一步增強圖樣的分辨率。無色表面活性劑通過增加抗蝕劑的光速提高了對暴露結構的識別。CEE 100 CB的光敏度位於230-270 nm的範圍內，允許該單元與i-line、G-line和KrF曝光源配合使用。此外，光致抗蝕劑可以開發與水溶劑或溶劑溶液取決於應用。BREWER SCIENCE CEE 100CB非常適合各種高精度應用。它擅長半導體基板、MEMS/NEMS制造、顯示測試結構等應用。此外，其良好的邊緣清晰度和高分辨率使其成為小尺寸特征光刻工藝的理想選擇。綜上所述，BREWER SCIENCE CEE 100 CB是一款為光刻應用而設計的正音抗蝕機。其組件提供了出色的蝕刻電阻、光速穩定性和分辨率，而其光敏性使其可以與多種曝光源配合使用。這些特點加上其良好的邊緣清晰度和使用水溶劑或溶劑溶液開發的能力，使其成為各種高精度應用的理想選擇。