二手 BREWER SCIENCE CEE 100CB #9237990 待售

BREWER SCIENCE CEE 100CB是專門為光刻工藝設計的綜合性光刻設備。它是根據氣泡技術進行獨特設計的，這意味著它非常有能力生產先進的前沿nannetic設備和先進的3D LP結構。它具有與均勻的聚合物基體均勻反應的光致抗蝕劑化學性能和穩定性。此外,它提供了一個集成的曝光後烘烤過程,並準備使用.該系統利用液體顯影劑，有助於保持均勻的顯影，去除多余的光敏材料，從而實現精確的薄膜厚度控制。這種光致抗蝕劑裝置采用先進的對比度控制設計，有助於生產出質量更高、分辨率更高的薄膜。這臺機器還具有很高的溶解度以允許具有較寬暴露緯度的成像。此外,它還具有高達90 nm的高分辨率功能。該工具還具有低暴露能量要求,允許低吞吐量和提高產量。BREWER SCIENCE CEE 100 CB的另一個特點是表面活性劑抑制劑的整體性能所產生的表面平面度提高。這一特性是有益的，因為它能夠提高設備產量。而且，這一資產還與多種電介質兼容，支持多種幹蝕刻工藝。其聚合物基質的設計是為了確保設計和圖像在暴露於極端環境時不會降解，從而產生最佳的薄膜性能。該模型的另一個顯著特征是其自旋速度可變性，確保了光刻膠的最高均勻性。它還設計有減少反射和信號損耗的防反射塗層。它還能夠支持單模式和雙模式過程。此外,它具有良好的配準精度,可確保在大型晶片上進行可靠的模式傳輸。此外，它被配制成能夠抵抗鋁和銅互連線路的金屬汙染，從而提高了芯片的長期可靠性。總之，CEE 100CB光刻設備是一種先進而全面的系統，旨在實現納米加工和微電子等應用的最佳效果。它具有許多有用的特性，如均勻的開發和高分辨率的能力，有助於生產具有卓越分辨率的高質量薄膜。此外，其聚合物基體和防反射塗層在惡劣的環境中提供了更好的長期可靠性和更高的性能。