二手 BREWER SCIENCE CEE 200 #9265629 待售

BREWER SCIENCE CEE 200 Photoresist Equipment是一種先進技術公司和研究機構使用的工具,它可以利用光刻工藝創建難以置信的詳細電路和結構。光刻工藝包括保護工件的某些區域不受強蝕刻的影響，從而產生一種耐蝕刻材料。光刻膠系統使用光源使用蒙版模板將光源「繪制」到工件上,該蒙版模板可以精確地使用抗磨膠材料照射區域。CEE 200光刻裝置由鋼制光刻槍、兩個不銹鋼滾筒和兩個線軸分離器組成，使用戶能夠進料並精確控制所需材料的數量。它還包括用於手動防腐應用的工具，以及用於噴塗塗層和泡沫應用的附件。其他附件如旋轉塗層、邊緣珠子和傳送器臂,可以對抗蝕劑的應用進行更精確的控制。用於BREWER SCIENCE CEE 200光刻機的光刻膠材料有兩種不同的厚度，即75納米和500納米。抗蝕劑材料會以不同的方式對光產生反應，這取決於選擇的厚度，以給出不同等級的蝕刻電阻和線條分辨率。材料分為CEE-A型，用於低光強度應用，CEE-B型，特別適合高分辨率設計，需要有效的防光。CEE 200光刻工具具有一系列特性，使其能夠促進各種微電子光刻工藝。它除了具有快速、準確的抗性應用能力外，還具有高溫範圍的操作環境（最高200 °C）。該資產還具有串聯的計算機控制，允許用戶快速調整流程，以確保準確性和防止缺陷。它也有一系列的除氣選項，以消除空氣口袋從抗蝕劑材料和內置顯示器，可以指示任何缺陷或錯誤的抗蝕劑應用。自1990年代末推出以來，BREWER SCIENCE CEE 200光阻模型在包括集成芯片、晶體管、二極管、LED在內的各類電子元件的生產中被廣泛采用。該設備能夠產生令人難以置信的細線和特征，分辨率為0.5µm（微米），對於現代微電子的生產已經成為必不可少的。CEE 200光阻系統提供了一種有效和可靠的方法來創建精確和詳細的結構,這些結構對於創建高性能電子設備至關重要。