二手 C&D SEMI 2-TRK:8626/36/36/I #9177294 待售

C&D SEMI 2-TRK:8626/36/36/I是一種適應性強的光阻設備,專為精確的材料處理應用而設計,需要精確且可重復的結果。該系統設計用於多種處理步驟中的多種光刻材料，包括薄膜沈積、光刻、蝕刻和離子植入。該單元由兩個軌道組成，一個用於光刻，另一個用於蝕刻和離子植入，每個軌道都可以配置為容納廣泛的底物和材料。光刻軌跡與標準正負光刻膠兼具，以及各種預曝光和後曝光的抗蝕劑技術，使用戶在對特征尺寸小至6.5微米的結構成像上達到針點精度。蝕刻/離子植入軌跡能夠以亞微米精度處理材料，具有精確控制蝕刻速率和定向離子植入的能力。機器可以配置額外的組件和附件，例如用於增強蝕刻性能的原位壓力室，以及用於進一步控制蝕刻參數的等離子體發生器。結合先進的光刻技術和蝕刻技術，C&D SEMI 2-TRK:8626/36/36/I為深亞微米材料加工提供了可靠、可重復的工藝。其應用範圍從半導體器件制造到精密光學系統。