二手 C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I #9133837 待售

C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I是一種工業級光敏加工設備，專為要求苛刻的半導體生產環境而設計。該系統的設計提供了可靠、統一的處理，每次運行最多8626個晶圓，36英寸晶圓尺寸。C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I單元由兩（2）個獨立的處理室組成，各有各自的控制面板、真空機和光刻生產能力。光致抗蝕劑工具的主要特點是能夠為所有加工過的晶片生成均勻且可重復的光致抗蝕劑結果。這是通過兩個獨立的光刻曝光系統來完成的，這些系統可以在兩個相鄰或不相鄰的晶片上生成相同的圖樣。每個腔室可單獨優化處理光刻膠，最大限度地減少停機時間和成本。此外，腔室還通過軟件實現自動化工藝優化，使晶片的可重復生產具有最小的停機時間。這種自動化過程優化進一步降低了生產運行的成本和時間,並提高了晶圓產量。C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I資產具有高達300°C的溫度範圍和可達10-7 torr的真空模型。設備配有可編程快門系統，提供受控掩模曝光。此功能允許在同一運行中對多個晶片進行單晶片曝光或批量曝光，進一步減少處理時間。該單元還采用了100級清潔臺階技術，其中包括一臺車載顆粒監測機。這樣就可以對顆粒水平進行最佳控制，並監測汙染情況，以確保清潔的工作環境。C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I光刻工具提供了一整套功能,為半導體生產環境提供業界領先的光刻生產。該資產提供了廣泛的溫度、壓力和對光石曝光時間的精確控制。基於軟件的流程優化允許以最小的停機時間和成本重復生產流程。該模型的清潔臺階技術進一步確保環境不受汙染。有了這種強大可靠的光刻生產設備，制造商可以降低生產高質量晶圓產量的成本和時間。