二手 CANON CDS-650 #9111494 待售

CANON CDS-650光刻設備是高分辨率半導體晶片開發的領先技術。該系統結合光阻（PR）和光刻技術在半導體基板上沈積可變厚度的PR膜。CDS-650光敏裝置特別適合於半導體的生產和研發應用。CANON CDS-650 Photoresist Machine配備了模塊化抗蝕器站,該站由Spin/Developer模塊和Exposure模塊組成。Spin/Developer Module包含配有電動旋轉塗層和氣泡的旋轉塗層,並具有數字溫度、RPM和計時器控制功能。曝光模塊容納了光刻曝光，這些曝光完全封閉，以減少散熱和環境溫度對抗蝕劑的影響。CDS-650直觀的軟件界面便於直接操作流程參數，使用戶可以輕松選擇並精確調整設置。這樣就不需要外部控制系統或復雜的設置。一旦設置了所需的參數,工具便會加載數據集,自動配置所有進程參數,然後管理整個進程以提高批之間的一致性。CANON CDS-650還具有圖像分析資產,無需手動目視檢查抗蝕劑配置文件。該模型采用了一系列抗蝕劑圖像,並自動分析了抗蝕劑的高度、方向、厚度和均勻性,從而能夠快速確認特性並改進對整個過程的控制。除了Spin/Developer Module和Exposure Module之外，CDS-650 Photoresist Equipment還配備了抗蝕劑就緒存儲和存儲補償晶圓傳輸系統，從而提高了設備的生產率。這種晶圓轉換機有助於實現最佳的阻抗再分配和沈積策略,以及快速重新啟動晶圓和存儲隔間以最大限度地提高吞吐量。CANON CDS-650 Photoresist Tool提供卓越的吞吐量和最大的薄膜厚度覆蓋範圍,提供精確的晶圓生產,符合行業最高標準。憑借先進的技術和直觀的用戶界面，CDS-650光刻資產非常適合生產高分辨率半導體晶片。