二手 CARL ZEISS ZBA 21 #9208417 待售

CARL ZEISS ZBA 21光刻設備是一種先進的抵抗系統,具有業界領先的精確成像聚焦深度。該單元優化了從先進基板到特殊應用的廣泛光刻應用，並與選定的曝光波長兼容。它采用基於計算機視覺技術的自動視覺機和CCD相機，非常適合研發和制造。此功能支持高精度對齊控制和自動聚焦優化。此外,該軟件還能夠智能地調整基板類型、層厚度和其他可能影響刀具性能的特性。ZBA 21的工藝速度高達每小時650個晶圓，XY方向重復精度為3 µm，6英寸晶圓的精細螺距能力為15 µm。其曝光波長範圍為157nm至400nm，進一步優化了設備性能提升、叠加配準等生產要求的資產。此外，光刻膠模型以其先進的技術能力如可調光譜功能提供了更好的均勻性和線寬控制，允許用戶根據自己的特定需求選擇和調整合適的曝光波長。其動態成像技術還使用戶能夠優化從深到淺的成像模式。CARL ZEISS ZBA 21結合高精度成像技術和自動化功能，為用戶提供具有針對性功能的卓越光刻性能。它的軟件界面設計、數據分析和自我診斷進一步允許用戶簡化工作流程並自信地做出決策。這使得它成為廣泛參與的絕佳選擇。