二手 CEE 100 #293818775 待售

CEE 100是一種超高性能的液體光刻設備，旨在實現精細和高精度的制圖。它具有極高的分辨率和較高的均勻性,使其能夠產生精細、精確的電路間距模式,是集成電路制造商的首選。光致抗蝕劑系統由多種組件組成，包括一種光致抗蝕劑顯影劑和一種不溶性組件，這些組件旨在形成一層材料薄膜，作為光刻的掩模。由多種光源發展而來，如紫外線、X射線、電子束曝光等。為了暴露抗蝕劑，使用其中一個光源，反射掉一個圖案鍍鉻面罩，或一系列擴散面罩到抗蝕劑塗層。光致抗蝕劑被設計為暴露於光束下，並視其是否暴露於強光或弱光而定，會分別交叉鏈接或分解溶解。這樣可以在創建所需的圖案時實現圖像清晰度和準確性。曝光後,暴露的抗蝕劑會與顯影劑溶液接觸,顯影劑溶液會根據暴露於光束的情況剝離光刻劑的暴露區域或未曝光區域。這允許使用光刻膠單元打印的圖樣的形狀和大小發生劇烈變化。100機的均勻性和分辨率使其非常適合於微加工應用。它能夠生產尺寸小至0.1 µm的圖樣，使其非常適合IC生產。此外,它的一致性和質量消除了對後光刻工藝或其他抗蝕層的需求,使其具有時間和成本效益。此外，光致抗蝕劑工具具有耐溫性和耐濕性，這意味著它在各種環境中的性能類似。這使得它適合廣泛的應用和行業。總體而言,CEE 100是IC制造商理想的光刻膠資產。它可靠、準確、一致和高效,使制造商能夠為其產品生成高度詳細和精確的模式。憑借其超高性能，繼續成為眾多生產商的熱門選擇。