二手 CEE 150CB #9147039 待售

CEE 150CB是一種高質量的光阻光掩模設備，設計用於生產高質量的微光刻結構。它是一個由光敏乳劑和光敏光敏乳劑組成的兩部分系統。光敏乳劑含有溶劑、添加劑、粘合劑和光敏化合物（PAC）的混合物。光敏乳液由四種不同的光敏材料組成。當暴露在光線下時，這些材料與PAC反應，在基板的頂部形成一個光致抗蝕層。光刻層用作光刻過程的掩模。曝光後，使用光刻機在光刻層中創建蝕刻結構。光致抗蝕劑層用溶劑去除，只留下所需結構的蝕刻特征。150CB的光敏乳液在光刻過程中提供高靈敏度、優異的附著力和出色的分辨率。這使得該單元適合多種光刻應用，包括半導體器件制造、光纖通信、薄膜顯微傳感器。利用CEE 150CB機的高質量乳劑，使光刻膠層的制備更加容易，因為光刻膠層高度均勻且無缺陷。這樣可以保持蝕刻機構的清潔，保證高質量的效果。最後，150CB工具的高靈敏度光敏乳劑也保證了低擁有成本，因為整個光刻過程只需要少量的曝光時間和光刻膠。這使得它非常適合小型應用程序,因為預算是一個重要的考慮因素。總而言之，CEE 150CB是一種可靠的光阻光掩模資產，以合理的價格提供高質量的結果。適用於各種光刻工藝，為微光刻結構提供了一種通用的解決方案。