二手 CEM 1800ES #9309472 待售

CEM 1800ES是一種設計用於精密工程的高度先進的光刻設備。它是一個通用的交鑰匙系統，結合了先進的光學和計算機控制的精確和一致的光刻結果。1800ES設計用於生產具有超精確對準、配準、分辨率和覆蓋能力的高分辨率光掩模。這些掩模可用於集成電路和電子元件的高分辨率成像。該單元具有先進的opto機械元件和軟件,可對陣列制作過程進行精確控制。這臺機器有一個線性步進器，用於高分辨率成像，每三層1800轉以上。掃描字段確定要成像的陣列的最大字段。掃描字段由多個子字段組成，可針對不同的模式要求單獨編程和優化。CEM 1800ES與可溶性、負音、氮化矽上的鋁、電子束抗蝕劑等各種光刻材料兼容。它還有一個控制氣溶膠的真空工具。1800ES的一個獨特特點是其快速曝光周期。它可以在單個曝光周期內執行多達24個陣列層,同時保持高達2微米的對準精度。資產具有可調的聚焦深度,有助於確保最高質量的圖像。它還具有可調節的聚焦位置,非常適合成像處理器和晶圓級封裝。該模型具有基於Linux平臺的強大控制器，並提供一系列模式功能。曝光時間、曝光劑量、步進速度、對準精度、聚焦深度等參數都是可編程的。CEM 1800ES光刻設備是精密工程的有力工具.它提供了廣泛的特性和功能，使其成為精密設計集成電路和電子元件的理想選擇。其快速的陣列周期、可調節的聚焦深度以及先進的光機械元件，使其成為一個高度通用的系統，適用於各種應用。