二手 CHEMALUX 300 #9253608 待售

CHEMALUX 300是一種光致抗蝕劑設備，允許在多種基材上生產耐化學塗層。該系統由負性抗蝕劑（通常是聚合物材料）組成，並在其上施加正性光致抗蝕劑。300是一個多層單元，先施用負性抗蝕劑，然後將光致抗蝕劑塗在負性層上。光致抗蝕劑是一種感光、光敏的聚合物，只有在暴露於UV-C光譜的輻射下才會發生反應。這允許精確的圖樣和光刻。CHEMALUX 300光刻機由半水顯影劑、化學溶劑和含有光敏化合物的預敏塗層組成。當這種工具暴露在紫外線下，會發生光誘導反應，形成交互抗蝕層。抗蝕層起到「化學屏蔽」的作用，保護下面的底物免受任何反應性化學過程的影響。抗蝕層也為進一步處理提供了絕佳的基礎。通過遮蔽基板的某些區域，使用阻光材料，可以產生所需的圖樣。300具有優異的附著力和耐化學性，是玻璃、金屬、矽、金剛石等多種基材的理想選擇。它比傳統的金屬掩蔽技術具有顯著的優勢，並允許非常精確和復雜的圖案。此外,CHEMALUX 300不受高達200 °C的溫度影響,因此可用於廣泛的應用,包括蝕刻和沈積。要使用光致抗蝕劑資產，首先用鹽酸溶液或溶劑對底物進行敏化處理。這就為光刻膠準備了基材.然後將光致抗蝕劑塗抹並使其幹燥。一旦使用了光致抗蝕劑,就會使用曝光光源對基板進行圖樣繪制。300抗蝕劑模型非常靈敏,可提供非常精確的圖案。最後，將基材浸入顯影劑溶液中完成工藝。CHEMALUX 300是一款用途非常廣泛、可靠的光刻設備。它速度快、效率高、性價比高，提供出色的附著力和耐化學性。由於其對紫外線的高靈敏度，300可以用於多種工藝，包括蝕刻和沈積。光刻膠系統常用於生產半導體器件、平板顯示器和光刻元件。