二手 CIBA GEIGY CLD 3 #94697 待售
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ID: 94697
優質的: 1997
Curtain coating system
Available in different modules: centering, preheating, coating chamber A, curing oven A, coating chamber B, curing oven B, cool down oven, etc.
PLC, software, PC and modem were upgraded in 2008
Windows based system
Panel size this system can handle:
Width: minimum 12" and max 24"
Length: minimum 12" and max 24"
Thickness : minimum 0.003" and max 0.2"
Thru put is 120 panels/hr
Space Lx W x H required for installation of this system:
Length of the line is: 42 feet
Width of the line is: 5 feet
Height of the line is: 10 feet
The exhaust is part of the system so no extra blowers are required
Operating manuals and electrical drawings are available in English
System is maintained by specialists
Currently installed in factory
1997 vintage.
CIBA GEIGY CLD 3是由CIBA GEIGY公司開發的光刻膠設備。它是一種負作用的光致抗蝕劑，這意味著未曝光的區域可以被去除，暴露的區域仍然存在，允許在光致抗蝕劑中通過有選擇地曝光然後蝕刻掉不需要的部分來創建圖樣。該系統專為產生精細、錯綜復雜和高度精確的模式而設計,例如集成電路設計中的模式。它的工作原理是在基板表面塗覆一層感光材料薄膜。然後，這種薄膜被選擇性地暴露在光線下，這種光線會分解暴露的材料，使未暴露的材料不受影響。然後使用化學溶劑、蝕刻工藝或其他方法去除暴露的材料。光致抗蝕劑的其余部分用作進一步蝕刻或加工的掩模。在CLD3的情況下，光致抗蝕劑由一種新穎的配方組成，使其高度穩定，曝光後移位最小，蝕刻阻力強。CIBA GEIGY CLD3光刻裝置在正確曝光和開發後,可提供出色的分辨率和簡單的處理。可達到的最小特征大小取決於所使用的設備,但可以小到0.25微米。它還具有較高的對比度打印，這意味著光刻膠層可以經受較強的蝕刻溶液，從而得到更可靠的蝕刻結果。這臺機器還提供了一系列的靈活性，因為它可以與許多不同的基板一起使用，包括玻璃、金屬、塑料和半導體材料。簡而言之,CLD 3光刻工具是為集成電路和其他特定用途的設備創建精細、復雜且高度精確的圖案的行業標準。它可靠、穩定，能夠產生尺寸小至0.25微米的特性，可以在一系列基板上使用，並提供出色的對比度和蝕刻阻力。
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